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12英寸立式氮化钛原子层沉积炉
半导体装备 Semiconductor
DEMAX TN302T
12英寸立式氮化钛原子层沉积炉
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公司名称：
业务联系人：冯浩东
DEMAX TN302T 12英寸立式氮化钛原子层沉积炉
DEMAX TN302T 12 Inch Vertical TiN ALD Furnace
本产品主要应用于12英寸集成电路（IC）领域原子层氮化钛（TiN）薄膜沉积工艺，可高效沉积低电阻率TiN薄膜，兼备原位自清洗功能，可批量处理12英寸晶圆。
设备特点
高精度温度场控制技术
先进的颗粒控制技术
先进的微环境氧含量控制技术
低电阻率薄膜高效沉积技术
优异的膜厚均匀性控制技术
产品应用
晶圆尺寸
12英寸
适用材料
硅
适用工艺
氮化钛栅极原子层沉积
适用领域
集成电路
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